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  • 邊緣切割倒角物鏡(1030-1080nm EFL10mm)(光束整形)

    邊緣切割倒角物鏡(1030-1080nm EFL10mm)(光束整形) 我們的邊緣切割倒角物鏡可將入射的單模激光聚焦成緊密光斑圖案,光斑束腰尺寸約為 2.3 um,覆蓋范圍超過 500um。 此模塊配備了定制的多焦點衍射光學元件(DOE),能夠實現與光軸存在 x 向偏差的對角線、曲線乃至梯形切割輪廓。借助本產品,可輕松實現典型的 45 度、0.2 - 0.3 毫米的光學倒角。

    更新時間:2026-01-07
    產品型號:
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  • SIFZP10-2IR拋光FZ級(Si)硅窗片 1.2-15um (10.0X2mm  窗口片)(晶體/棱鏡/窗片)

    IR拋光FZ級(Si)硅窗片 1.2-15um (10.0X2mm 窗口片)(晶體/棱鏡/窗片) 光學級硅通常規定為具有5至40ohm-cm的電阻率,其電阻率比大多數半導體的都高。 非常高的電阻率材料可客戶定制,te別是對于TeraHertz應用。通常的材料為CZ(Czochralski級提拉法生成),其在9μm具有Si-O吸收帶,因此如果在3至5μm光譜帶中使用該窗口,則此性質不重要。

    更新時間:2025-01-03
    產品型號:SIFZP10-2
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  • SICZP30-2ARIR拋光CZ級(Si)硅窗片 AR/AR增透膜 1.2-15um (30.0X2.0mm  窗口片)

    IR拋光CZ級(Si)硅窗片 AR/AR增透膜 1.2-15um (30.0X2.0mm 窗口片) 光學級硅通常規定為具有5至40ohm-cm的電阻率,其電阻率比大多數半導體的都高。 非常高的電阻率材料可客戶定制,te別是對于TeraHertz應用。通常的材料為CZ(Czochralski級提拉法生成),其在9μm具有Si-O吸收帶,因此如果在3至5μm光譜帶中使用該窗口,則此性質不重要。

    更新時間:2025-01-03
    產品型號:SICZP30-2AR
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  • SICZP50-50-10NEUTIR拋光CZ級(Si)硅窗片 矩形 N-type 摻雜 1.2-15um (50mm x 50mm

    IR拋光CZ級(Si)硅窗片 矩形 N-type 摻雜 1.2-15um (50mm x 50mm x 10mm 用于中子反射窗口片)(晶體/棱鏡/窗片) 產品總覽 光學級硅通常規定為具有5至40ohm-cm的電阻率,其電阻率比大多數半導體的都高。 非常高的電阻率材料可客戶定制,te別是對于TeraHertz應用。通常的材料為CZ(Czochralski級提拉法生成),其在9μm具有Si-O吸

    更新時間:2025-01-03
    產品型號:SICZP50-50-10NEUT
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  • SRFP10-1IR級拋光氟化鍶窗片 0.15-11um (10.0X1.0mm圓形SrF2窗口片)(晶體/棱鏡/窗

    IR級拋光氟化鍶窗片 0.15-11um (10.0X1.0mm圓形SrF2窗口片)(晶體/棱鏡/窗片) 氟化鍶(SrF2)通過真空Stockbarger生長技術生產,只有專業方面的應用。 光學上,SrF2具有介于鈣和BaF2之間的性質。 通常,窗口片符合紅外使用條件,但可以在大部分紫外線光譜范圍內提供良好的性能。為了保證穿過 UV(和 VUV)的傳輸,型號以U結尾

    更新時間:2025-01-02
    產品型號:SRFP10-1
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